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刻蝕機和光刻機的區別
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刻蝕機和光刻機的區別主要在:
1、工藝不同:刻蝕機是將硅片上多餘的部分腐蝕掉,光刻機是將圖形刻到硅片上;
2、難度不同:光刻機的難度和精度大於刻蝕機。
標籤:
機和
光刻機
刻蝕
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